ADPC 302 是一款在半導體領域獨特的用於粒子污染監測的過程內污染管理系統。
 

高效粒子監測

亞微米粒子會造成可能導致相當大產量損失的缺陷。即使是測量值為 0.1 μm 的最小粒子，也可能會損壞半導體芯片的結構。創新的 ADPC 302 可測量晶片傳送載體內的粒子數量（前開式晶圓傳送盒 FOUP，前開式裝運箱 FOSB）。全自動的專利工藝從載體表面(包括門)對粒子進行定位和計數。
得益於領先的晶圓，該系統可用於成批生產和研發分析。主要應用是載體特征化、清洗策略優化和清洗質量檢查。
與傳統濕法相比較（液體顆粒計數器），ADPC 的干式工藝（干式粒子計數器）顯示出了明顯的優勢。干式工藝的主要優勢在於粒子測量是完全自動的。它是在生產過程中集成的，因此不再需要生產周期之外的時間。有了全自動測量，該過程無需額外的操作員。測試時間只需 ７分鐘，意味著 ADPC 302 的速度是傳統系統的 ４ 倍。可在 １ 個小時內測試 8 個運輸箱。

APA 302

在潔淨室環境下，APA 302 是用於先進芯片制造的獨特在線監測工具。這台革新性設備可以測量 FOUP 和周圍環境中的空氣分子污染物（簡稱 AMC）。該測量實時發生，在 ppbv 範圍內具有很高的靈敏度。
 

有效的污染監測

水分和空氣分子污染物 (AMC)，例如，氟化氫 (HF)，於等待時間內，在 FOUP 槽對槽的空間裡被釋放出來。而這些元素會在圖樣晶圓上生成晶體生長，從而導致產量的損失和性能的退化。普發真空的 APA 302 通過 FOUP 過濾器來對 AMC 進行采樣。在 ppb 的範圍內，通過離子遷移光譜儀、火焰離子化檢測、熒光紫外線或光腔衰蕩光譜技術，測量在 2 分鐘內發生，具有高靈敏度。而當負載端口上沒有 FOUP 時，APA 302 會監控周圍的潔淨室環境。

FOUP 環境的可靠分析

為了保證性能，SEMI S2/S8 兼容的 APA 302 配備了自動校准功能，它會在定期的時間間隔內被激活。對於在 APA 中對 AMC 的監控，可在有晶圓或無晶圓的 POD 中執行。FOUP 可以手動傳送，也可通過 2 個負載端口上的懸掛式起重運輸 (OHT) 來傳送。因此，可優化各工藝步驟間的等待時間，污染的增加量能立刻被察覺到，且產量增加。